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Les moyens d’élaboration de la plateforme SURFACE, pour la plupart de taille industrielle, rassemblent l’essentiel des technologies de dépôt physique en phase vapeur : arc cathodique sous basse pression, pulvérisation cathodique magnétron pour le dépôt de films métalliques et céramiques. Nous disposons également de moyens d’élaboration spécifiques au domaine de la recherche pour les dépôts de couches ultra-minces métalliques et organiques (chauffage par canon à électrons, electro-spray, dépôt en phase liquide par spin-coating ...). La plateforme  SURFACE est également dotée de moyens de caractérisation chimique (MEB-FEG  + EDS, SDL), structurale (DRX), optique (spectromètre UV-visible-IR), mécanique (NHT, tribomètre pion-plan) et topographique de l’échelle micro (surfomètre) à nano (microscopes à force atomique (AFM) et à effet tunnel (STM)). Des bancs spécifiques de caractérisation électrochimique (corrosion, mesure de conductivité ionique, électrique), de mesures thermoélectriques (TFA) ou de capteurs de gaz sont également disponibles.