Nom de l’équipement : PLANAR
Utilisation : Le réacteur PLANAR utilise la technologie d’Arc cathodique sous basse pression pour l’élaboration de revêtements nano-architecturés (monocouche, nanocomposite ou multicouches nanométriques). Elles sont majoritairement à base de nitrures ou de carbures de métaux de transition fréquemment sollicités pour des applications dans des environnements extrêmes en raison de leurs propriétés mécaniques exceptionnelles.
Application : Revêtements anti-érosion, résistant à l'usure et frottement, résistant à la corrosion et à l'oxydation à haute température.
Onglet : Élaboration
Nom et prénom du responsable : BILLARD Alain / NEFFAA Khalid
Caractéristiques techniques : |
Applications : |
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Application : 3 Cathodes alimentées par des générateurs d’Arc, 1 Cathode alimentée avec un générateur DC pulsé, Porte échantillon en double rotations (1 à 7 rpm), Porte échantillon chauffant jusqu’à 450°C, Polarisation et décapage ionique du substrat Nom de l’outil : UTBM-NONO Fabricant : PLANAR Technologie SA Salle : LM012 Hall Plateforme SURFACE UTBM Site Montbéliard |
Dépôts mécaniques dur, Tribologie (faible coefficient frottement), Usinage grande vitesse sans lubrification… |