Nom de l’équipement : UDP850-6
Utilisation : Élaboration de films minces
Application : La machine UDP850-6 est équipée de 6 magnétrons en champ fermé qui autorise une meilleure ionisation du plasma et par conséquent des propriétés des revêtements intéressantes ; Il s’agit d’un réacteur de dimension industrielle dans lequel il est possible de synthétiser des films métalliques et/ou céramiques. Le système de contrôle permet, en autonomie, la réalisation de revêtements monocouche, multicouche ainsi que d’empilement à l’échelle nanométrique sur divers substrats (céramiques, métalliques, verres…).
Onglet : Élaboration
Nom et prénom du responsable : BRIOIS Pascal / NEFFAA Khalid
Caractéristiques techniques : |
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Application : 6 cibles alimentées par des générateurs de courant continu, dimension des cibles 75cm x *25cm, Champ magnétique des magnétrons fermés, Chambre de dépôt d’environ 1m3 Porte échantillons en triple rotations polarisable, Système de régulation en boucle fermée afin d’optimiser la vitesse de dépôt de céramiques à partir de cibles métalliques Nom de l’outil : TCL UDP850-6 Fabricant : Teer Coatings Limited Modèle : UDP850-6 Salle : LM012 Hall Plateforme SURFACE UTBM Site de Montbéliard |
Revêtement à faible coefficient de frottement type DLC, nitrure, carbure, Film métallique, oxydes, …. |