Nom de l’équipement : Ensemble d’appareil permettant la mesure de la dureté Utilisation : Le groupe d’équipement sert à mesurer la dureté à différentes échelles allant de la nanodureté, la...
Caractéristiques techniques : Applications : Nanodureté : Indenteur Berkovitch, charge 0,01 à 50 g, Microdureté : Indenteur Vickers et Knoop, charge 1 à 2000 g, Macrodureté : Indenteur Rockwell ou...
Nom de l’équipement : Spectrophotomètre UV-3600, sphère d’intégration ISR-3100 Utilisation : Détermination des propriétés optiques Application : Mesures de courbes spectrales en transmission et... Caractéristiques techniques : Applications : Mesure en Transmission et en Réflexion Gamme de longueur d’onde 220 à 3600 nm Double faisceau Résolution 0,1 nm Logiciel complémentaire : Scout (...
Nom de l’équipement : Tribomètre bille sur disque Utilisation : Le frottement caractérise la résistance du mouvement relatif entre deux surfaces en contact. Le tribomètre bille sur disque, permet d’... Caractéristiques techniques : Applications : Échantillons circulaires Contact hertzien Analyse destructive Charge appliquée : 2N, 5N et 10N Diamètre de bille : 6 mm Nature de cette bille : WC/Co,...
Nom de l’équipement : ALCATEL SCM450 Utilisation : Synthèse de revêtement par dépôt physique en phase vapeur Application : Le dispositif ALCATEL SCM450 est une machine de dépôt physique en phase... Caractéristiques techniques : Applications : 3 cibles magnétron de 150 mm de diamètre alimenté par des générateurs de courant continu pulsé, Porte échantillon polarisable en simple rotation, Zone...
Nom de l’équipement : ALCATEL 604 Utilisation : Synthèse de revêtement par dépôt physique en phase vapeur Application : Le dispositif ALCATEL 604 est une machine de dépôt physique en phase vapeur... Caractéristiques techniques : Applications : 4 cibles magnétron de 50 mm de diamètre alimentés par des générateurs de courant continu pulsé, Porte échantillon polarisable en simple rotation, Porte...
Nom de l’équipement : Alcatel A603 Utilisation : Réalisation de dépôt physique en phase vapeur Application : Le dispositif ALCATEL SCM603 est une machine de dépôt physique en phase vapeur équipées de...
Caractéristiques techniques : Applications : Possibilité de réaliser des dépôts « double face » La machine possède 2 paires de cathodes en vis-à-vis. 5 cibles circulaires (diamètre 145 mm) alimentés...
Nom de l’équipement : UDP850-6 Utilisation : Élaboration de films minces Application : La machine UDP850-6 est équipée de 6 magnétrons en champ fermé qui autorise une meilleure ionisation du plasma... Caractéristiques techniques : Caractéristiques techniques : Application : 6 cibles alimentées par des générateurs de courant continu, dimension des cibles 75cm x *25cm, Champ magnétique des...
Nom de l’équipement : PLANAR Utilisation : Le réacteur PLANAR utilise la technologie d’Arc cathodique sous basse pression pour l’élaboration de revêtements nano-architecturés (monocouche,... Caractéristiques techniques : Applications : Application : 3 Cathodes alimentées par des générateurs d’Arc, 1 Cathode alimentée avec un générateur DC pulsé, Porte échantillon en double rotations (1 à...
Nom de l’équipement : HYMALAYAN Utilisation : Synthèse de films minces dans lequel sont incorporés des nanoparticules Application : Le dispositif HYMALAYAN est un procédé unique d’élaboration de... Caractéristiques techniques : Applications : Spécificités : 2 cibles magnétrons rectangulaire de 25*17,5 cm alimentées par un générateur de courant continu pulsé, Jeu de 4 lentilles aérodynamique,...
Nom de l’équipement : Profilomètre AltiSurf 500 Utilisation : Acquisition de microtopographies de profils ou de surfaces par balayage avec reconstruction 2 et 3D. Application : Technique non... Caractéristiques techniques : Applications : Spécificités : Déplacement de la platine porte échantillon en X et Y (10x10cm) Sonde fixée à une table de déplacement en Z (10 cm) Capteur haute...
