Chambre de pulvérisation cathodique

Nom de l’équipement : chambre de pulvérisation cathodique couplée à une enceinte ultravide pour mesure de résistivité en température
Utilisation : cet équipement sert à élaborer des films minces nano-structurés à base de métaux, d’oxydes et de nitrures et de mesurer sous ultravide leurs propriétés électriques en fonction de la température
Application : électronique, opto-électronique
Onglet : Élaboration
Nom et prénom du responsable : Nicolas MARTIN

Caractéristiques techniques :

Applications :

Spécificité
Cet équipement permet l’élaboration de films minces à base de métaux, de nitrures, d’oxydes suivi d’une mesure in situ et sous ultravide des propriétés de transport électronique (résistivité notamment) en fonction de la température dans une gamme s’étalant de l’ambiante à 600°C.

Nom de l’outil : chambre de pulvérisation cathodique couplée à une enceinte ultravide pour mesure de résistivité en température

Fabricant : non applicable car outil conçu et fabriqué en interne

Modèle : non applicable car outil conçu et fabriqué en interne

Salle : RJ M2S 13 du bâtiment Temis Science @ Besançon

Mesures de conductivité électrique en température et sous atmosphère réduite

Stabilité en température des films minces